高精密电子束蒸发光学镀膜设备

fangwen1
Tue, 08 Apr 2025 16:14:58 +0000

高精密电子束蒸发镀膜机

适用于在玻璃/PC/PMMA基片上形成高精度光学多层薄膜的精密真空镀膜机

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AR 膜（基材玻璃透过率＞91.5%）：
■? 420-680nm波段，单面平均透过率＞95%，反射率小于0.5（平均值）% ；
■? 双面平均透过率＞98%，反射率小于0.5（平均值）%；

AS/AF膜测试标准：
■? ?初始接触角范围为 115±5°；
■? ?钢丝绒耐摩擦测试标准：用 0000#钢丝绒，面积为 10*10mm,行程 40 次/分，负载1Kg，5000 次往返摩擦后，接触角大于 100°；
■? ?橡皮擦测试标准： 直径 6mm 橡皮擦，行程 25 次/分，负载1Kg， 2500 次往返摩擦后，接触角大于 100°；

备注：测试样片玻璃需为经过精密抛光过的触摸屏盖板专用玻璃，表面光洁。

应用领域

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产品优势

离子辅助

采用大口径高输出离子源， 可实现离子辅助镀膜

清洁维护

针对排气和工艺过程中产生的微粒采取了措施

高精密

采用可精确控制的光学膜厚计、 多点监测交换机构

监控

采用in-situ监测器能够提高成品率、缩短调整时间

无油清洁

涡轮分子泵可以在无油的清洁环境中进行成膜

过程可控

搭载运行管理系统，可用于实时状态掌握和损失分析等

先进配置

采用坩埚上没有极片的电子束加热方式作为蒸发源，可以稳定地形成多层膜；采用本公司独有的比率控制法和多点在线监控，可以形成高精度且稳定的光学多层膜；可利用操作性良好的升降机来取出基片伞架。

使用均匀分布的高离子电流密度的离子源，搭载双电子枪，多点和环型坩埚可镀100层以上，利用自动蒸镀控制系统实现全自动蒸镀过程，工件架可选择钟罩式或行星式。

技术参数

HCEB-1100 HCEB-1350 HCEB-1550 HCEB-1800

规格
型号 | HCEB-1100
腔体尺寸 | Φ1100 x H1520
装载量 | 0.8 m2
结构 | 立式前开门，SUS304不锈钢
性能
转速 | 10~30RPM（可变）
抽速 | 大气压至1.5×10-3 Pa≤30min
极限真空度 | 8.0×10-5 Pa
膜料 | TiO2,Ti 3 O 5,H 4,ZrO 2,ZnS,Al 2 O 3,MgF 2,SiO 2,Au,Ag,Cu,Al,Ti,In,Sn…
主要配置
夹具系统 | 中心上旋转伞架，单体或分体
加热系统 | 卤素灯 / 铠装加热器，最高350℃
排气系统 | 低真空泵组 + 高真空泵组 + 低温泵 / Polycold
真空控制系统 | 真空控制器、潘宁及皮拉尼真空计
镀膜系统 | 电子枪，无氧铜坩锅，阻抗式蒸发源，射频/考夫曼型/霍尔型离子源
充气系统 | MFC或APC自动压强控制仪
膜厚控制仪 | 晶控或光控
控制系统 | PC+PLC
应用
光学薄膜应用 | UV/IR截止滤光片、装饰膜、带通滤光片、RGB滤光片、光触媒、HR膜等
适用波长 | 300nm~1560nm
注：可客制化（数据仅供参考）

规格
型号 | HCEB-1350
腔体尺寸 | Φ1350 x H1610
装载量 | 1.1 m2
结构 | 立式前开门，SUS304不锈钢
性能
转速 | 10~30RPM（可变）
抽速 | 大气压至1.5×10-3 Pa≤30min
极限真空度 | 8.0×10-5 Pa
膜料 | TiO2,Ti 3 O 5,H 4,ZrO 2,ZnS,Al 2 O 3,MgF 2,SiO 2,Au,Ag,Cu,Al,Ti,In,Sn…
主要配置
夹具系统 | 中心上旋转伞架，单体或分体
加热系统 | 卤素灯 / 铠装加热器，最高350℃
排气系统 | 低真空泵组 + 高真空泵组 + 低温泵 / Polycold
真空控制系统 | 真空控制器、潘宁及皮拉尼真空计
镀膜系统 | 电子枪，无氧铜坩锅，阻抗式蒸发源，射频/考夫曼型/霍尔型离子源
充气系统 | MFC或APC自动压强控制仪
膜厚控制仪 | 晶控或光控
控制系统 | PC+PLC
应用
光学薄膜应用 | UV/IR截止滤光片、装饰膜、带通滤光片、RGB滤光片、光触媒、HR膜等
适用波长 | 300nm~1560nm
注：可客制化（数据仅供参考）

规格
型号 | HCEB-1550
腔体尺寸 | Φ1550 x H1810
装载量 | 1.5 m2
结构 | 立式前开门，SUS304不锈钢
性能
转速 | 10~30RPM（可变）
抽速 | 大气压至1.5×10-3 Pa≤30min
极限真空度 | 8.0×10-5 Pa
膜料 | TiO2,Ti 3 O 5,H 4,ZrO 2,ZnS,Al 2 O 3,MgF 2,SiO 2,Au,Ag,Cu,Al,Ti,In,Sn…
主要配置
夹具系统 | 中心上旋转伞架，单体或分体
加热系统 | 卤素灯 / 铠装加热器，最高350℃
排气系统 | 低真空泵组 + 高真空泵组 + 低温泵 / Polycold
真空控制系统 | 真空控制器、潘宁及皮拉尼真空计
镀膜系统 | 电子枪，无氧铜坩锅，阻抗式蒸发源，射频/考夫曼型/霍尔型离子源
充气系统 | MFC或APC自动压强控制仪
膜厚控制仪 | 晶控或光控
控制系统 | PC+PLC
应用
光学薄膜应用 | UV/IR截止滤光片、装饰膜、带通滤光片、RGB滤光片、光触媒、HR膜等
适用波长 | 300nm~1560nm
注：可客制化（数据仅供参考）

规格
型号 | HCEB-1800
腔体尺寸 | Φ1800 x H1850
装载量 | 2.3 m2
结构 | 立式前开门，SUS304不锈钢
性能
转速 | 10~30RPM（可变）
抽速 | 大气压至1.5×10-3 Pa≤30min
极限真空度 | 8.0×10-5 Pa
膜料 | TiO2,Ti 3 O 5,H 4,ZrO 2,ZnS,Al 2 O 3,MgF 2,SiO 2,Au,Ag,Cu,Al,Ti,In,Sn…
主要配置
夹具系统 | 中心上旋转伞架，单体或分体
加热系统 | 卤素灯 / 铠装加热器，最高350℃
排气系统 | 低真空泵组 + 高真空泵组 + 低温泵 / Polycold
真空控制系统 | 真空控制器、潘宁及皮拉尼真空计
镀膜系统 | 电子枪，无氧铜坩锅，阻抗式蒸发源，射频/考夫曼型/霍尔型离子源
充气系统 | MFC或APC自动压强控制仪
膜厚控制仪 | 晶控或光控
控制系统 | PC+PLC
应用
光学薄膜应用 | UV/IR截止滤光片、装饰膜、带通滤光片、RGB滤光片、光触媒、HR膜等
适用波长 | 300nm~1560nm
注：可客制化（数据仅供参考）

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